报告题目: 超低损耗异质集成氮化硅光学

报告摘要: 未来的信息系统需要生成和处理越来越多的数据。传统的光纤技术将会在这些需求上遇到瓶颈 。近年来，随着半导体材料生长和微纳加工技术的发展，集成光学正在成为解决信息系统瓶颈的核心技术，并将产生数十亿至数千亿美元的市场需求。在众多集成光学材料平台中，氮化硅以其超低光损耗的优越表现，已经成为继硅和磷化铟之后第三大主流集成平台。本报告将介绍近年来超低损耗异质集成氮化硅光芯片技术的发展和前沿应用，并着重介绍报告人在本领域的一些列重要成果。

报告人简介：深圳国际量子研究院研究员，量子极限传感方向负责人、量子精密测量研究所所长；合肥国家实验室研究员。他2020年获瑞士洛桑联邦理工大学博士学位，博士论文被授予年度博士论文奖，以表彰他“在片上集成光频率梳技术上的突破性实验工作和卓越的成果”；2016年获德国埃尔朗根纽伦堡大学硕士学位并获最高毕业荣誉；2012年获中国科学技术大学学士学位。他主要的研究领域为集成光学、非线性光学、量子光学、微机电系统和微波光子学等。他已发表文章超过50篇，其中包含《自然》/《科学》正刊9篇，核心子刊20篇。由他带领研发的技术已经成功孵化三家瑞士初创公司。他在国际上获得了多个荣誉，包括2020年麻省理工科技评论评“35岁以下35位科技创新”中国榜单入选者。

主持 联系人：杨起帆(Tel: 62758530)

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